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真空系统集成

电子束箱式真空镀膜机
以您的镀膜工艺出发,理论计算和设计经验结合,合理的配置,合理的布局,超高的性价比。全自动一键式操作。既能满足科研院所多品种、小批量产品研制的需求,又能适用于规模化生产。全无油真空系统。
◆ 适用行业:光学元件、手机盖板、材料、半导体、装饰、教学科研等。
◆ 适用膜料金属类:金、银、铝、铜、钛、铬、钯、铑、铂、镍等各类金属或合金
◆ 介质类:二氧化硅、三氧化二铝、二氧化钛、五氧化二钽、氧化铪、二 氧化锆、氟化镁、氟化钇、硫化锌、硒化锌、H4、SV-7、SV-20等
◆ 晶体类:锗、硅等膜层厚度       ◆ 金属类:5nm-40mm
◆ 介质类:5nm-30mm              ◆  晶体类:10nm-30mm
◆ 基底(衬底)尺寸: φ1.5mm-φ2400mm

性能指标

主要技术指标:

◆ 内腔直径(mm):500、750、800、900、1100、1250、1300、1500、1800、2050、2200、2500、2700、3600、定制

◆ 真空抽率:从大气状态到4×10-3Pa,需要时间≤15min 

◆ 镀膜室(清洁、空载)极限压力:≤2×10-5Pa;

◆ 保真空(达到极限压力,关闭高阀,1小时):≤ 9×10-2 Pa

◆ 膜厚片内均匀性:≤±2%(测量点不少于5点);

◆ 膜厚片间均匀性: ≤±2%(批次内5片,每片取平均值)

◆ 膜厚批间重复性:≤±2% (连续3批,每批次取平均值) ;


控制程序:

◆ 全自动一键式操作,保证镀膜重复性。

◆ 全自动程序有可编程模式和固定模式两种可供您选择。

◆ 程序设有三级权限,便于管理及维护。

◆ 所有数据实时记录,可还原成历史曲线,便于追溯和排查。

◆ 关键部件根据实际使用情况,有维护时间显示,即节约成本,又便于维护。

◆ 完备的互锁功能,防止误操作。


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